调制的紫外线光消毒系统和方法
公开
摘要
本公开涉及调制的紫外线光消毒系统和方法。对目标空间进行消毒的系统和方法包括紫外线(UV)灯、占用传感器以及在工作上连接到占用传感器和UV灯的控制单元。UV灯被配置成将UV光发射到目标空间中。占用传感器被配置成监测目标空间并生成指示目标空间被至少一个人占用的传感器信号。控制单元被配置成接收由占用传感器生成的传感器信号，并且基于目标空间的占用，随时间调制由UV灯发射的UV光的辐照度。
基本信息
专利标题 ：
调制的紫外线光消毒系统和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114533912A
申请号 ：
CN202111413512.7
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2021-11-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J·J·奇尔德雷斯
申请人 ：
波音公司
申请人地址 ：
美国伊利诺伊州
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
王青芝
优先权 ：
CN202111413512.7
主分类号 ：
A61L2/10
IPC分类号 ：
A61L2/10 A61L2/24 A61L9/20
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61L
材料或消毒的一般方法或装置；空气的灭菌、消毒或除臭；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的化学方面；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的材料
A61L2/00
食品或接触透镜以外的材料或物体的灭菌或消毒的方法或装置；其附件
A61L2/02
应用物理现象
A61L2/08
辐照
A61L2/10
紫外线辐照
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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