一种纳米抗指纹防眩膜及其制备工艺
授权
摘要
本发明公开了一种纳米抗指纹防眩膜及其制备工艺，本申请选择引入磁性二氧化硅，通过分散剂对磁性二氧化硅进行分散改进，得到磁性填料，分散剂为吐温‑20，吐温‑20的端羟基可以与二氧化硅表面的羟基键合，并通过氢键吸附，以提高磁性二氧化硅的分散性能，得到分散性优异的磁性填料。本申请公开了一种纳米抗指纹防眩膜及其制备工艺，工艺设计合理，操作简单，制备得到的防眩膜不仅具有优异的防眩性能，同时表面疏水，防污防指纹性能优异，通过采用不同粒径的磁性填料进行定向排列，制备得到的防眩膜的耐磨性能优异，实用性较高。
基本信息
专利标题 ：
一种纳米抗指纹防眩膜及其制备工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113831569A
申请号 ：
CN202111051543.2
公开（公告）日 ：
2021-12-24
申请日 ：
2021-09-08
授权号 ：
CN113831569B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
向一民安太勇张杰海陈志强
申请人 ：
江苏怡丽科姆新材料股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省扬州市仪征市汽车工业园宝昌路3号
代理机构 ：
南京明杰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
葛红
优先权 ：
CN202111051543.2
主分类号 ：
C08J7/04
IPC分类号 ：
C08J7/04 C08J7/046 C08L67/02 C09D175/14 C09D171/02 C09D7/62
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08J
加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
C08J7/00
高分子物质成形制品的化学处理或涂层
C08J7/04
涂层
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2022-01-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08J 7/04
申请日 : 20210908
申请日 : 20210908
2021-12-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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