非晶氮化硼膜和包括其的抗反射涂层结构体
公开
摘要
提供非晶氮化硼膜和包括其的抗反射涂层结构体。所述非晶氮化硼膜具有包括sp3杂化键和sp2杂化键的非晶结构，其中所述非晶氮化硼膜中的sp3杂化键相对于sp3杂化键与sp2杂化键之和的比率小于约20％。
基本信息
专利标题 ：
非晶氮化硼膜和包括其的抗反射涂层结构体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114578460A
申请号 ：
CN202110799177.2
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2021-07-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
崔太镇申铉振李昌锡金尚元
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王华芹
优先权 ：
CN202110799177.2
主分类号 ：
G02B1/113
IPC分类号 ：
G02B1/113 G02B1/14 G09F9/30 H01L27/146 H01L31/0216 H01L31/054
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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