一种基于纳米微腔实现近场显示与远场全息的方法及元件
授权
摘要
本发明涉及一种基于纳米微腔实现近场显示与远场全息的方法及元件,所述纳米微腔是指一种由金属层‑电介质层‑金属层构成的三层薄膜结构,方法包括:基于光谱的透射率与纳米微腔电介质层厚度的对应关系形成一种包含多个纳米微腔的纳米微腔阵列,使其中每个纳米微腔对一个选取中心波长的光谱呈高透射或在对选取中心波长的光谱呈高透射和对选取中心波长的光谱呈低透射之间为可选,且其中部分所述纳米微腔的电介质层具有至少两种可选的厚度以提供两种不同的反射相位;以不同中心波长的光谱在所述纳米微腔阵列的透射情况确定近场显示;运用优化算法计算所述纳米微腔阵列的相位分布并对根据所述相位分布计算远场全息。
基本信息
专利标题 :
一种基于纳米微腔实现近场显示与远场全息的方法及元件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113311683A
申请号 :
CN202110553569.0
公开(公告)日 :
2021-08-27
申请日 :
2021-05-20
授权号 :
CN113311683B
授权日 :
2022-05-20
发明人 :
李仲阳王泽静代尘杰郑国兴李子乐李哲万成伟
申请人 :
武汉大学
申请人地址 :
湖北省武汉市武昌区珞珈山
代理机构 :
武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张凯
优先权 :
CN202110553569.0
主分类号 :
G03H1/04
IPC分类号 :
G03H1/04 G03H1/08 G03H1/16 G02B27/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03H
全息摄影的工艺过程或设备
G03H1/00
应用光波、红外波或紫外波取得全息图或由此获得图像的全息摄影工艺过程或设备;及其特殊的零部件
G03H1/04
产生全息图的工艺过程或设备
法律状态
2022-05-20 :
授权
2021-09-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03H 1/04
申请日 : 20210520
申请日 : 20210520
2021-08-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载