MPO镜片低应力预处理装置及其应用方法
授权
摘要
本发明提供一种MPO镜片低应力预处理装置及其应用方法,该装置包括:基底;固定设置于基底上方的镜片支撑模块,镜片支撑模块包括成对对称排布的多个镜片支撑单元;多个设置于基底上方且位于任意两个镜片支撑单元之间的连接脚置位单元,各连接脚置位单元的内侧面均设有至少一个的用于装载相应连接脚的置位突起;多个水平运动控制单元,各水平运动控制单元分别用于将各连接脚置位单元与基底活动连接;其中,多个镜片支撑单元支撑MPO镜片的高度与置位突起装载连接脚的高度相适应。该装置结构简单优化,各部件相互关联,配合工作,可将多个连接脚以低应力形式安装至MPO镜片上并避免MPO镜片损坏或变形,可应用性强。
基本信息
专利标题 :
MPO镜片低应力预处理装置及其应用方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113262940A
申请号 :
CN202110469536.8
公开(公告)日 :
2021-08-17
申请日 :
2021-04-28
授权号 :
CN113262940B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
张臣吴琼贾振卿凌志兴戴妍峰
申请人 :
中国科学院国家天文台
申请人地址 :
北京市朝阳区大屯路甲20号
代理机构 :
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 :
苗晓静
优先权 :
CN202110469536.8
主分类号 :
B05C5/02
IPC分类号 :
B05C5/02 B05C9/12 B05C13/02 F16B11/00
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B05
一般喷射或雾化;对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C5/00
将液体或其他流体物质喷射,灌注或让其流到工件表面的装置
B05C5/02
液体从与工件接触的或几乎接触的一个出口中出来
法律状态
2022-05-17 :
授权
2021-09-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B05C 5/02
申请日 : 20210428
申请日 : 20210428
2021-08-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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