本发明涉及一种用于样品的热处理的设备(1)以及一种用于操作本发明的设备的方法。所述设备包括基座单元(2)，其具有用于接收至少一个样品载体(7)的接收区域(6)；温度控制块(5)，其布置在所述接收区域(6)中；盖(3)，用于关闭所述接收区域(6)，所述盖(3)被设计为在使用位置中对布置在温度控制块(5)中的样品载体(7)上施加可预定的按压力；温度传感器(16)，用于记录所述温度控制块(5)的温度；以及控制单元(14a)，用于将温度控制块(5)加热和冷却到可预定的温度。根据本发明，设备(1)还包括用于至少温度传感器(16)的现场校准、确认和/或调节的参考元件(17)，所述参考元件(17)至少部分地由至少一种材料构成，对于该材料，在与第一温度传感器(16)的校准相关的温度范围中、在至少一个预定相变温度下发生至少一个相变，其中，对于所述相变材料保持在固相下。