遮盘
实质审查的生效
摘要
描述用于物理气相沉积(PVD)的包括钛(Ti)、钡(Ba)、或铈(Ce)中的一者或多者的遮盘，所述遮盘允许粘贴以在基板的蚀刻期间最小化释气和控制缺陷。所述遮盘合并集气剂材料，所述集气剂材料对于包括O2、CO、CO2、和水的反应气体分子具有高度选择性。
基本信息
专利标题 ：
遮盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114342057A
申请号 ：
CN202080062271.3
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-09-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张康魏俊琪欧岳生K·波和田优一A·朱普迪S·巴布
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
史起源
优先权 ：
CN202080062271.3
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 C23C14/02 C23C14/35 C23C14/56
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20200903
申请日 : 20200903
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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