使用低温等离子体射流的近净形增材制造
实质审查的生效
摘要
一种系统包括具有喷嘴的装置。元件环绕着所述装置设置。进料部被配置成将材料的粉末供应至所述装置中。气体源被配置成将前体气体供应至所述装置中和被配置成供应惰性气体以使其在所述元件与所述装置之间的空间中进行环流并围绕所述喷嘴离开。等离子体产生器被设置在所述装置中，且被配置成将所述前体气体离子化和将所述粉末雾化，且经由所述喷嘴将由经雾化的所述粉末与经离子化的所述前体气体所构成的微粒的射流喷射至衬底上，所述衬底邻近所述喷嘴设置。
基本信息
专利标题 ：
使用低温等离子体射流的近净形增材制造
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114287052A
申请号 ：
CN202080059846.6
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2020-08-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
阿比纳夫·谢卡尔·拉奥塞耶达利雷萨·托尔巴蒂萨拉夫杰罗姆·胡巴塞克陈继宏宋轶
申请人 ：
朗姆研究公司;希尔福克斯有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海胜康律师事务所
代理人 ：
李献忠
优先权 ：
CN202080059846.6
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20200819
申请日 : 20200819
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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