控制第一物体相对于第二物体的位置的方法、控制单元、平台装...
公开
摘要
本发明提供一种确定光刻设备的第一物体与光刻设备的第二物体之间的期望相对位置的方法，该方法包括：a.在初始相对位置处生成表示第一物体相对于第二物体的位置的测量信号；b.基于测量信号确定与初始相对位置相关联的梯度；c.基于梯度确定位置设定点；d.基于位置设定点，将第一物体相对于第二物体的位置控制到另一相对位置。
基本信息
专利标题 ：
控制第一物体相对于第二物体的位置的方法、控制单元、平台装置和光刻装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114286967A
申请号 ：
CN202080059461.X
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2020-07-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
T·A·C·范凯伦H·H·M·考克斯R·I·卡米迪W·H·G·A·凯南
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080059461.X
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
