一种塑封二极管残胶清洗装置
授权
摘要
本实用新型涉及二极管加工技术领域，且公开了一种塑封二极管残胶清洗装置，包括机身，机身的顶部壁面中间和靠近右侧的位置均开设有滑槽，两个滑槽的内部均滑动安装有滑块，两个滑块的顶部壁面均固定安装有旋转盘，旋转盘的圆心位置镶嵌安装有清洁刷，且清洁刷的顶部壁面和底部壁面与旋转盘的顶部壁面和底部壁面位于同一平面，两个旋转盘的侧壁安装有转轴，两个清洁刷的顶部壁面之间安装有连接条，机身的顶部壁面后方左右两侧的位置均竖直向上固定安装有支撑座。本实用新型中，塑封二极管残胶清洗装置，通过清洁刷将二极管上的残胶清洗掉，再由喷头喷出水将二极管冲洗干净，达到了增强清洁程度的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种塑封二极管残胶清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022484403.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-31
授权号 ：
CN212967631U
授权日 ：
2021-04-13
发明人 ：
张建军
申请人 ：
江苏恺锐太普电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省宿迁市泗阳经济开发区黄河路36号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022484403.1
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/329 B01D29/01 B01D29/96
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-04-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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