一种真空条件下的光引发制备共价有机框架的反应装置
授权
摘要
本实用新型提供一种真空条件下的光引发制备共价有机框架的反应装置，包括光引发剂储料罐、有机聚合单体储料罐、第一真空收集罐、第二真空收集罐、共价有机框架储料罐、抽真空装置以及光引发反应装置；光引发剂储料罐和有机聚合单体储料罐出料口分别与第一真空收集罐和第二真空收集罐连通，第一真空收集罐、第二真空收集罐和光引发反应装置侧壁上均设置有抽真空管道，与抽真空装置连接；光引发反应装置中设有搅拌装置，搅拌装置及光引发反应装置的外侧中均设有光照装置。本装置将共价有机框架材料、光引发剂和有机聚合配体在三者在真空的条件下混合并在LED光照下通过复合，最终形成共价有机框架复合材料。
基本信息
专利标题 ：
一种真空条件下的光引发制备共价有机框架的反应装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022338652.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-19
授权号 ：
CN213951059U
授权日 ：
2021-08-13
发明人 ：
苏伟张晖郭泽峰
申请人 ：
江阴创优新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市江阴市澄江中路159号A座1003室
代理机构 ：
武汉东喻专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张英
优先权 ：
CN202022338652.X
主分类号 ：
C08G83/00
IPC分类号 ：
C08G83/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G83/00
在C08G2/00到C08G81/00组中不包含的高分子化合物
法律状态
2021-08-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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