一种带光控系统的镀膜机膜片公转结构
授权
摘要
本实用新型涉及一种带光控系统的镀膜机膜片公转结构,属于镀膜机技术领域。包括固定筒和固定于镀膜机顶部的环形底盘,所述环形底盘上设置罩体,所述固定筒内穿设中空式定轴,所述固定筒和定轴穿设罩体,且穿过所述环形底盘伸入镀膜机真空膜腔;所述定轴内腔设有内转筒,所述内转筒能够在定轴内腔转动;所述内转筒外圆周上设有比较片加热单元,所述定轴底端设有比较片单元,所述比较片加热单元设于比较片单元上方,对比较片单元进行加热;所述内转筒内腔穿设晶控探头。本申请将晶控探头和比较片相结合,不仅提高了检测膜厚的精度,而且扩大了膜厚层数范围,增加了镀膜产品种类。
基本信息
专利标题 :
一种带光控系统的镀膜机膜片公转结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022302515.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-16
授权号 :
CN213895989U
授权日 :
2021-08-06
发明人 :
刘宸佳刘志成
申请人 :
江阴市中兴光电实业有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市江阴市镇澄路206号
代理机构 :
江阴市轻舟专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
孙燕波
优先权 :
CN202022302515.0
主分类号 :
C23C14/54
IPC分类号 :
C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2021-08-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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