一种高致密性压铸件浸渗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种高致密性压铸件浸渗装置，包括浸渗罐体，所述浸渗罐体的内部设有浸渗腔、所述浸渗腔的顶部设有用于调节浸渗腔内部气压的调压结构，以及设置在浸渗腔内部用于填充压铸件表面气孔缝隙的浸渗结构。本实用新型通过设置密封座将浸渗腔盖体和浸渗腔壁之间的缝隙进行填充，避免外部空气进入，将浸渗腔封闭为独立空间，整个浸渗过程致密性仅在浸渗腔中即可进行，避免外部气体的参与保证整个浸渗过程具有较高的致密性，采用喷射面填充方式每次使用的填充液用量少并且都是全新填充液无残留，保证浸渗质量。
基本信息
专利标题 ：
一种高致密性压铸件浸渗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022278846.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-13
授权号 ：
CN214079209U
授权日 ：
2021-08-31
发明人 ：
陶诚张贤明
申请人 ：
广东铭利达科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市清溪镇罗马先威西路5号1号楼101室
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐丽
优先权 ：
CN202022278846.5
主分类号 ：
B22D31/00
IPC分类号 ：
B22D31/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B22
铸造；粉末冶金
B22D
金属铸造；用相同工艺或设备的其他物质的铸造
B22D31/00
铸造后的剩余材料，如浇口的切割
法律状态
2021-08-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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