一种硅片清洗装置
授权
摘要
本实用新型涉及硅片清洗技术领域，公开了一种硅片清洗装置。硅片清洗装置包括槽体和气管组件。待清洗的硅片置于槽体内的清洗液中，槽体的底部设置有出水口，出水口处设置有过滤网。气管组件包括气管和支架，支架固定在槽体底面，气管上开设多个通气孔，气管置于硅片的下方并固定在支架上；气管组件与过滤网沿竖直方向间隔设置，且过滤网位于气管组件在槽体底面上的投影外。本实用新型，降低了清理的难度，避免了碎片在槽体内部残留，保证后续的清洗效果。
基本信息
专利标题 ：
一种硅片清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022171852.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-28
授权号 ：
CN213529930U
授权日 ：
2021-06-25
发明人 ：
刘晓杰
申请人 ：
洛阳阿特斯光伏科技有限公司;阿特斯阳光电力集团股份有限公司
申请人地址 ：
河南省洛阳市洛龙科技园关林大道10号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN202022171852.0
主分类号 ：
B08B3/10
IPC分类号 ：
B08B3/10 B08B13/00 H01L21/67 H01L31/18 B01D46/10
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
法律状态
2021-06-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN213529930U.PDF
PDF下载
