半导体离心旋转清洗机
授权
摘要
本实用新型公开了应用于半导体工件清洗领域的半导体离心旋转清洗机，其结构包括设备主机、上下料系统和用于放置工件的工装篮，设备主机包括综合工作腔、清洗储水槽和漂洗储水槽，综合工作腔设置有清洁腔以及离心控制系统；清洁腔的中部设置有用于放置工装篮的承载位，并于内壁设置有若干清洁喷嘴以及干燥风刀，且安装有若干超声波换能器，离心控制系统以实现对放置于承载位的工装篮的旋转驱动。该装置集超声离心清洗、超声离心漂洗和风切干燥工序于一体，实现了该半导体清洗领域的设备结构创新，该结构紧凑式装配不仅降低了其占地空间，且有效减少并避免了清洁死角的出现，保证了工件的清洁质量以及清洁稳定性，提升了适用范围。
基本信息
专利标题 ：
半导体离心旋转清洗机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022132183.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN213546270U
授权日 ：
2021-06-25
发明人 ：
张振南潘效飞吴孝平曹春兰吕刚
申请人 ：
苏州易尔斯泰自动化设备有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区和顺路1号博济生能科技园102室
代理机构 ：
苏州衡创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王睿
优先权 ：
CN202022132183.6
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 B08B3/12 B08B3/02 B08B3/08 B08B13/00 F26B5/08 F26B11/18 F26B21/00
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-06-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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