一种金属掩膜板
授权
摘要
本实用新型公开一种金属掩膜板，金属掩膜板母板上设有多个第一有效区开口，金属掩膜片上设有多个第二有效区开口；第二有效区开口在金属掩膜板母板上正投影落入对应的第一有效区开口；金属掩膜板母板上设有多个第一校正区开口，金属掩膜片上设有多个第二校正区开口；第二正区开口在金属掩膜板母板上正投影落入对应的第一校正区开口；每个金属掩膜片上至少设一个第二校正区开口；金属掩膜片对应的金属掩膜板母板的区域上，至少设置一个与第二校正区开口对应的第一校正区开口。多个金属掩膜片的设置节约了制作成本；通过金属掩膜片的分区设置，仅对单个金属掩膜片进行调整减少耗时，可进行多次对位校正，对做出高分辨率OLED产品具有积极意义。
基本信息
专利标题 ：
一种金属掩膜板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022129679.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN213357723U
授权日 ：
2021-06-04
发明人 ：
林少钦
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州市景弘专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
林祥翔
优先权 ：
CN202022129679.8
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/14 C23C14/24 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2021-06-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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