一种扩散片高透过率均光处理结构
授权
摘要
本实用新型涉及扩散片技术领域，具体为一种扩散片高透过率均光处理结构，包括基材，基材的上方固定连接有第一扩散层，第一扩散层的上表面上固定设置有第一粗糙纹路，第一扩散层的上方固定设置有第二扩散层，第一扩散层与第二扩散层之间固定设置有棱镜片，第一扩散层通过棱镜片与第二扩散层固定连接，第二扩散层的上表面上固定设置有第二粗糙纹路，基材的下方固定连接有抗静电涂布层，抗静电涂布层的下表面上固定设置有第三粗糙纹路。本实用新型，通过设有第一扩散层和第二扩散层以及两层扩散层之间固定连接的棱镜片相互配合使用，保证光的高透过率，提高扩散片的透过率和利用率。
基本信息
专利标题 ：
一种扩散片高透过率均光处理结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022064026.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-21
授权号 ：
CN212989699U
授权日 ：
2021-04-16
发明人 ：
邓世强
申请人 ：
江苏南锦电子材料有限公司
申请人地址 ：
江苏省镇江市新区大港通港路7号
代理机构 ：
南京创略知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
柳强
优先权 ：
CN202022064026.6
主分类号 ：
G02B5/02
IPC分类号 ：
G02B5/02 G09F9/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/02
漫射元件；远焦元件
法律状态
2021-04-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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