一种XRD检测用无损害样品的制样加样装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种XRD检测用无损害样品的制样加样装置,包括板状底座,底座上设有开口朝上的凹槽,凹槽内底面上平铺有带恒温温控的加热膜,一上端开口下端封闭的槽状导热体置于凹槽内,导热体的开口周向外翻并紧贴于底座表面上,盛样台置于导热体内,导热体一旁的底座上设有支撑体,支撑体支撑有一上端开口的配样瓶,配样瓶上端开口可由密封盖盖合,一倒L型加样管的水平部自由端从配样瓶侧壁下部水平伸进配样瓶内并紧贴配样瓶底部,加样管上设有弹性吸囊和开关,倒L型加样管竖直部自由端位于导热体正上方,倒L型加样管竖直部自由端从上往下逐渐缩小;该装置不会损坏检测面,能提高粉末材料检测精度。

基本信息
专利标题 :
一种XRD检测用无损害样品的制样加样装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021983254.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-11
授权号 :
CN213022928U
授权日 :
2021-04-20
发明人 :
龙开琳刘风坤
申请人 :
贵阳职业技术学院
申请人地址 :
贵州省贵阳市云潭南路609号
代理机构 :
贵州启辰知识产权代理有限公司
代理人 :
赵彦栋
优先权 :
CN202021983254.7
主分类号 :
G01N23/20008
IPC分类号 :
G01N23/20008  G01N23/2005  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/20
利用材料辐射的衍射,例如,用于测试晶体结构;利用材料辐射的散射,例如测试非晶材料;利用材料辐射的反射
G01N23/20008
分析仪零件结构,例如其特征在于X射线源、检测器或光学系统;其配件;样品制备
法律状态
2021-04-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332