一种前体源气体输送装置
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摘要

本实用新型涉及MOCVD薄膜材料制备技术领域,公开一种前体源气体输送装置。包括罐体和与其固定连接的顶盖;罐体内设有进气管、出气管以及对进气管和出气管进行加热的加热装置;所述进气管为变径管道,该变径管道由粗径管道和细径管道交替连接组成并且细径管道上连接有前体源气瓶;顶盖上设置有进气阀和出气阀,进气阀连通进气管的进口,进气管的出口和出气管的进口连通,出气管的出口连通出气阀。本实用新型设计进气管为变径管道,提高了载气气流中前体源蒸汽的含量;进气阀和出气阀与顶盖紧密接触,没有设置多余的管路连接,热传递最大化,有效防止罐体内气化的前体源气体冷凝。

基本信息
专利标题 :
一种前体源气体输送装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021942059.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-08
授权号 :
CN213596460U
授权日 :
2021-07-02
发明人 :
张东生刘毫毫姚栋嘉吴恒余佳成马美霞杨超王琰
申请人 :
巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司
申请人地址 :
河南省郑州市巩义市站街镇胡坡村
代理机构 :
郑州豫开专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张智伟
优先权 :
CN202021942059.X
主分类号 :
C30B25/14
IPC分类号 :
C30B25/14  C30B25/16  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B25/00
反应气体化学反应法的单晶生长,例如化学气相沉积生长
C30B25/02
外延层生长
C30B25/14
气体供给或排出用的装置;反应气流的变换
法律状态
2021-07-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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