一种电容膜双面镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种电容膜双面镀膜设备，包括板体，所述板体的一侧安装有放卷滚轮，所述板体的一侧安装有第二等离子处理机，所述板体的外侧安装有油屏系统，所述板体的一侧安装有第二主鼓，本实用新型的有益效果是：1、高速、高精度：采用西门子高精度伺服驱动系统配合高精度的控制算法，使设备可以高速平稳的运行；2、高效：蒸发系统蒸发量大，薄膜冷却效果好，一次同时镀两面，大大提高了生产效率；3、高安全性：为了保证设备安全可靠的运行，在程序上，采用互锁和报警提示设计；在机构设计上，采用必要的防脱落、防夹设计方案；4、合理的机械设计：模块化的优化组合设计，提高安装精度，使操作维护更加方便。
基本信息
专利标题 ：
一种电容膜双面镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021859810.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-31
授权号 ：
CN212925160U
授权日 ：
2021-04-09
发明人 ：
崔应你
申请人 ：
合肥东昇机械科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济技术开发区集贤路2606号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021859810.X
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-04-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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