一种利用石墨烯耦合的近红外宽波段光开关装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种利用石墨烯耦合的近红外宽波段光开关装置，包括：衬底，以及覆盖在衬底上的调制层，调制层上通过光刻‑镀膜设有介质层和金属纳米圆柱阵列，金属纳米圆柱阵列作为电极一，调制层上通过镀膜设有电极二，调制层为石墨烯；石墨烯层直接生长或者转移至衬底上，所述石墨烯层上施加有垂直方向的直流偏置电压，介质层的材料为光刻胶，光刻胶通过旋涂机旋涂于调制层的上方，通过二次双光束全息光刻工艺形成介质层，本实用新型提供一种利用石墨烯耦合的近红外宽波段光开关装置，以解决现有石墨烯光开关调制深度较低和制备复杂的问题，实现了一种与入射偏振无关，结构和制备相对简单，具有优异调制深度和调制带宽的反射式光开关。
基本信息
专利标题 ：
一种利用石墨烯耦合的近红外宽波段光开关装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021767611.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-21
授权号 ：
CN212873134U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
王钦华袁志豪曹冰熊先杰何耿周浩罗安林陈王义博徐立跃
申请人 ：
苏州大学
申请人地址 ：
江苏省苏州市十梓街1号
代理机构 ：
北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
宫建华
优先权 ：
CN202021767611.6
主分类号 ：
G02F1/01
IPC分类号 ：
G02F1/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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