一种可连续制备石墨烯膜的设备
授权
摘要
本实用新型提供一种可连续制备石墨烯膜的设备,包括反应炉,以及设置于反应炉上的进气管、排气管和加热炉,进气管和排气管分别设于反应炉上表面和下表面的中心位置;加热炉设于反应炉的下表面上;反应炉上还设有进料口、出料口和传送带,进料口和出料口分别设于反应炉的两个端面上;传送带穿设于反应炉内部,且传送带两端分别位于进料口和出料口处;加热炉内设有承载壳体、加热装置和升降装置,升降装置设于加热炉底部;承载壳体设于升降装置上,且承载壳体的顶端穿设于反应炉内;加热装置设于承载壳体内部。本实用新型连续不断的制备石墨烯膜,提高了制备石墨烯膜的效率。
基本信息
专利标题 :
一种可连续制备石墨烯膜的设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021593663.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-04
授权号 :
CN213446236U
授权日 :
2021-06-15
发明人 :
史广洲
申请人 :
苏州天煜新材料科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴中区木渎镇金枫南路1258号金桥汽配产业园A5幢第五层
代理机构 :
东台金诚石专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
刘登科
优先权 :
CN202021593663.6
主分类号 :
C01B32/186
IPC分类号 :
C01B32/186
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B32/00
碳;其化合物
C01B32/15
纳米级碳材料
C01B32/182
石墨烯
C01B32/184
制备
C01B32/186
化学气相沉积
法律状态
2021-06-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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