铜球抛光生产线
授权
摘要
本实用新型公开了一种铜球抛光生产线，包括抛光装置和清洗槽，抛光装置包括抛光单元，抛光单元包括抛光筒和滑道，抛光筒具有入口段、过渡段和出口段，入口段的直径大于出口段的直径，入口段、过渡段和出口段共轴，过渡段设于入口段和出口段之间，出口段的筒壁上设有多个排液口；清洗槽设于出口段的左下方，清洗槽上设有入料口，滑道设于清洗槽与抛光筒之间，滑道向下倾斜设置。通过设置入口段的直径大于出口段的直径，大部分抛光液会留在入口段，不会流动到清洗槽；少部分抛光液随铜球移动到出口段，然后从排液口流出，也不会流动到清洗槽；只有附着在铜球上的抛光液才能进入清洗槽，清洗工序的负担较轻，清洗工序的效率较高。
基本信息
专利标题 ：
铜球抛光生产线
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021585429.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-03
授权号 ：
CN212335305U
授权日 ：
2021-01-12
发明人 ：
林伟文周建新张兰虎钱瑞锋
申请人 ：
佛山市承安铜业有限公司
申请人地址 ：
广东省佛山市南海区九江镇沙咀村九江工业园
代理机构 ：
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 ：
谢泳祥
优先权 ：
CN202021585429.9
主分类号 ：
C23F3/04
IPC分类号 ：
C23F3/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23F
非机械方法去除表面上的金属材料；金属材料的缓蚀；一般防积垢；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法的多步法金属材料表面处理
C23F3/00
金属的化学法光亮处理
C23F3/04
重金属
法律状态
2021-01-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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