掩模版光学自动检测的载入装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种掩模版光学自动检测的载入装置,所述载入装置包括:光源,其构造成发出光线以照射待检测的掩模版;物镜,其构造成正对所述光源设置,并用于在所述光线照射在所述待检测的掩模版上时检测所述掩模版;和承载夹具,其构造成可相对于所述光源和所述物镜移动,并设有可供容纳所述待检测的掩模版的开槽,所述开槽的内壁垂直向外延伸有用于承载所述掩模版的多个承接凸台;每一所述承接凸台上开设有用于真空吸附所述待检测的掩模版的腔体,且多个所述承接凸台位于同一水平面并间隔分布。
基本信息
专利标题 :
掩模版光学自动检测的载入装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021575894.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-31
授权号 :
CN212515342U
授权日 :
2021-02-09
发明人 :
叶小龙王栋
申请人 :
深圳市龙图光电有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区沙井街道新玉路北侧圣佐治科技工业园4#厂房一楼
代理机构 :
深圳壹舟知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
寇闯
优先权 :
CN202021575894.4
主分类号 :
G03F1/84
IPC分类号 :
G03F1/84
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/82
辅助工艺,例如清洗
G03F1/84
检查
法律状态
2021-02-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN212515342U.PDF
PDF下载