多晶硅还原炉及多晶硅生产系统

授权

摘要

本实用新型提供一种多晶硅还原炉及多晶硅生产系统，涉及多晶硅还原炉结构技术领域，为解决现有技术中存在多晶硅还原炉仅能够位于固定位置进行装载、反应以及卸料等步骤，导致产料、原料以及废料之间不能够充分隔离，容易出现相互掺杂污染的问题而设计。本实用新型提供的多晶硅还原炉，包括钟罩、底盘、电极以及滚轮。钟罩罩设于底盘，并形成用于生产多晶硅的反应腔，电极的一端穿入底盘并延伸至反应腔，且电极由外部电源供电；滚轮转动连接于底盘的底部。本实用新型还提供一种多晶硅生产系统，包括上述的多晶硅还原炉。

基本信息

专利标题：

多晶硅还原炉及多晶硅生产系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021481982.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-23

授权号：

CN212712771U

授权日：

2021-03-16

发明人：

施光明李宇辰王琳韩玲杨月龙童占忠郭光伟何乃栋陈宏博

申请人：

亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司

申请人地址：

青海省西宁市经济技术开发区金硅路1号

代理机构：

北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

张伟

优先权：

CN202021481982.8

主分类号：

C01B33/03

IPC分类号：

C01B33/03