一种用于晶圆曝光检测设备的旋转电机
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于晶圆曝光检测设备的旋转电机，包括底座，所述底座的顶部固定连接有散热壳，所述散热壳的内腔设置有散热机构，所述散热壳的顶部与右侧均设置有通风机构，所述散热机构右侧的底部设置有气缸，所述气缸的输出端固定连接有连接块，所述底座顶部的右侧设置有限位机构，所述连接块的顶部固定连接有活动架。本实用新型通过启动风扇本体，加快了散热壳内腔的空气流速，再启动气缸，气缸的输出端最终带动风扇本体上下移动，进一步加快了散热壳内腔的空气流速，提高了旋转电机本体的散热效果，该用于晶圆曝光检测设备的旋转电机，具备散热效果好的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种用于晶圆曝光检测设备的旋转电机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021452162.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-22
授权号 ：
CN212364793U
授权日 ：
2021-01-15
发明人 ：
戴严淼
申请人 ：
深圳精技工业科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区观澜街道大富社区大富工业区20号硅谷动力智能终端产业园A15栋102
代理机构 ：
北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
宫建华
优先权 ：
CN202021452162.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/67
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-01-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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