一种基于RFID技术的跟随式检漏仪
授权
摘要
本实用新型属于氦质谱检漏仪领域,具体公开了一种基于RFID技术的跟随式检漏仪,包括检漏仪本体、跟随式结构与防护结构,所述检漏仪本体装设于跟随式结构上,检漏仪本体上装设有防护结构;所述跟随式结构包括可自由行走的底座以及RFID识别读卡器,底座底侧设有行走轮,底座内部设置有用于驱动行走轮行进以及转向的行进驱动装置与转向驱动装置;所述防护结构分布于检漏仪本体外侧端,防护结构包括底板、顶板、防护板与缓冲防护垫。本实用新型可以从多个方向对跟随的人与物实施辨别,有效的提高了跟随的准确性,同时由可行走的底座接收数据并通过行进驱动装置与转向驱动装置带动其转向移动,使其可以跟随操作者移动。
基本信息
专利标题 :
一种基于RFID技术的跟随式检漏仪
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021406997.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-16
授权号 :
CN212646003U
授权日 :
2021-03-02
发明人 :
冉振为洪荣丰郭炳汉曹大阳杨效汪浩
申请人 :
深圳华尔升智控技术有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙华区大浪街道同胜社区华霆路5号厂房B栋1层-2层
代理机构 :
合肥东邦滋原专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张海燕
优先权 :
CN202021406997.8
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2021-03-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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