一种用于成像系统的定标体
授权
摘要
本实用新型提供了一种用于成像系统的定标体，其置于成像系统内，用于提供均匀的辐射源，方便后续进行非均匀性校正，且其结构简单、方便布置。其包括吸波材料层、金属板、加热片、保温层和温控模块，所述吸波材料层覆盖于所述金属板的一表面，所述金属板的另一表面覆盖有所述加热片，所述加热片的远离所述金属板的冷面覆盖有保温层，所述加热片通过线路连接温控模块。
基本信息
专利标题 ：
一种用于成像系统的定标体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021293120.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-06
授权号 ：
CN212872959U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
侯丽伟谢巍袁毅潘鸣
申请人 ：
上海亨临光电科技有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区南汇新城镇天骄路336号1幢2层A205室
代理机构 ：
苏州国诚专利代理有限公司
代理人 ：
杜丹盛
优先权 ：
CN202021293120.2
主分类号 ：
G01V13/00
IPC分类号 ：
G01V13/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01V
地球物理；重力测量；物质或物体的探测；示踪物
G01V13/00
包括在G01V1/00至G01V11/00各组中的仪器或设备的制造、校准、清洁或修理
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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