一种光刻机自润滑履带结构
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摘要
本实用新型公开了一种光刻机自润滑履带结构，其结构包括箱体、光刻机、集成电路、履带、主动轮、负重轮、工作台和激光机；箱体的顶端一侧内固定安装有光刻机，箱体内设有集成电路，光刻机顶端设有激光机，箱体一侧固定安装主动轮和负重轮，履带一端与主动轮连接，一端与负重轮连接，履带由若干链节组成，链节表面设有链板形成环形带状，链节内部穿插销轴，销轴两端设有滚轮，托辊内设有自润滑轴承座，自润滑轴承座一端设有端座，端座设有转轴贯穿于托辊内部，转轴设有有外密封圈与自润滑轴承座间隙配合，转轴设有自润滑轴承与外密封圈间隙配合并与内密封圈间隙配合，本实用新型具有对光刻机履带进行自润滑的有益效果。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻机自润滑履带结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021262395.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-01
授权号 ：
CN212083893U
授权日 ：
2020-12-04
发明人 ：
李俊毅姚恒裕陈舜钦李雅瑜
申请人 ：
福建安芯半导体科技有限公司
申请人地址 ：
福建省泉州市南安市石井镇院前村2号
代理机构 ：
泉州市兴博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
易敏
优先权 ：
CN202021262395.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-12-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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