新型沉铜槽循环清洁装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种新型沉铜槽循环清洁装置。所述的循环清洁装置设置在沉铜槽体内，所述的循环清洁装置包括循环进药支管、进药管，所述的循环进药支管由多根进药支管构成，所述的多根进药支管设置在沉铜槽体的底部，所述的多根进药支管通过多个弯管接头连接为一冲洗回路，所述的进药管与多根进药支管中的任意一根相连通，所述的进药支管表面设有若干出药孔。本实用新型用设置在沉铜槽底四边的进药支管代替了以往设置在沉铜槽底中部的进药管，改变了进药的流向和搅拌效果，防止沉铜槽体底部的四个死角因为药水搅拌不充分而发生结铜的问题。本实用新型结构简单、生产成本低、清洁效果好、防止槽壁结铜、搅拌充分、药液流动充分，效果明显。
基本信息
专利标题 ：
新型沉铜槽循环清洁装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021202286.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-27
授权号 ：
CN212976190U
授权日 ：
2021-04-16
发明人 ：
涂建业
申请人 ：
扬州依利安达电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省扬州市仪征经济开发区时代大道1号
代理机构 ：
北京连和连知识产权代理有限公司
代理人 ：
李鹏
优先权 ：
CN202021202286.9
主分类号 ：
B08B9/08
IPC分类号 ：
B08B9/08 C23C18/38
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B9/00
用专门的方法或设备清洁空心物品
B08B9/08
清洗容器，如槽的清洗
法律状态
2021-04-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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