一种用于粒子操控的近晶相液晶多层装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于粒子操控的近晶相液晶多层装置，包括从下至上依次设置的基板、取向膜、LCP层、粒子溶液涂层和近晶相液晶层；取向膜具有分子指向矢呈设定分布的控制图形，以使液晶层中的液晶分子自组装成设定的液晶焦锥畴周期结构，液晶焦锥畴周期结构包含多个具有旋转对称性的液晶焦锥畴。本实用新型基于近晶相液晶的装置实现了对纳米粒子的操控，无需对粒子及液晶进行相容基团修饰的步骤，降低了技术难度及时间成本。
基本信息
专利标题 ：
一种用于粒子操控的近晶相液晶多层装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021186083.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-23
授权号 ：
CN212967154U
授权日 ：
2021-04-13
发明人 ：
郭清仪葛士军吴赛博
申请人 ：
南京南辉智能光学感控研究院有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市麒麟科创园天骄路100号侨梦苑B栋12楼
代理机构 ：
南京苏高专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
苏虹
优先权 ：
CN202021186083.5
主分类号 ：
G21K1/00
IPC分类号 ：
G21K1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置，如聚焦或慢化
法律状态
2021-04-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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