一种化学气相沉积装置中的雾化结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种化学气相沉积装置中的雾化结构，包括工作台、漏槽、支柱和伺服电机，所述工作台顶端的一侧固定连接有主壳体，且主壳体两侧的内部皆设置有第二开槽，所述主壳体内侧的两端皆固定连接有辅助结构，所述主壳体外部顶端的一侧固定连接有控制器，所述主壳体底端内部的中间位置处均匀设置有漏槽，所述工作台底端的一侧固定连接有雾化机构，所述工作台顶端的另一侧固定连接有烘干机构，所述工作台底端的四个拐角处皆固定连接有支柱。本实用新型通过在工作台底端的一侧固定连接有雾化机构，此种喷洒方式既使得两面均匀覆盖雾液，若主壳体内部的雾气过重也可通过主壳体底端内部的漏槽流入水箱，以供其循环使用，避免浪费。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积装置中的雾化结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021177952.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-23
授权号 ：
CN212713750U
授权日 ：
2021-03-16
发明人 ：
杨毅敏李鹏周晴
申请人 ：
杭州英希捷科技有限责任公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市萧山区萧山经济技术开发区启迪路198号C座1303室
代理机构 ：
杭州融方专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
沈相权
优先权 ：
CN202021177952.8
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54 C23C16/448 C23C16/455 C23C16/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2021-03-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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