镀膜装置以及镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了镀膜装置（100）以及镀膜设备（300），其中，镀膜装置（100）可用于在热丝化学气相沉积法中对基板（205）进行镀膜，具有用于对基板（205）进行镀膜的镀膜腔（110），镀膜腔（110）内间隔地设置有三个以上具有热丝的镀膜部（120），相邻的两个镀膜部（120）之间，容许单块基板（205）流过，且相邻的两个镀膜部（120）设置为分别对流过它们之间的基板（205）的与其相对的一面进行镀膜。本实用新型的镀膜装置（100），能够实现在同一个镀膜腔（110）内对基板（205）的两面进行镀膜。
基本信息
专利标题 ：
镀膜装置以及镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021076645.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-12
授权号 ：
CN211112215U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
李时俊余仲陈麒麟卢贤政
申请人 ：
深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市坪山区龙田街道竹坑社区金牛东路62号一层至六层
代理机构 ：
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 ：
林明校
优先权 ：
CN202021076645.0
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54 C23C16/24 C23C16/458 H01L31/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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