一种地下出入口通道下穿迁改后箱涵的结构体系

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摘要

本实用新型属于地下工程领域，涉及一种地下出入口通道下穿迁改后箱涵的结构体系，包括迁改后箱涵、后期出入口通道部分和局部盖挖逆筑结构，迁改后箱涵下方与地下出入口通道相交处施做有局部盖挖逆筑结构；局部盖挖逆筑结构包括先期出入口通道顶板和设置于其两侧的先期围护结构，先期出入口通道顶板的两端分别与两侧的先期围护结构连接；先期出入口通道顶板的下方施做有后期出入口通道部分，后期出入口通道部分与先期出入口通道顶板围成地下出入口通道。本实用新型通过在迁改后箱涵的下方预先施工局部盖挖逆筑结构，为盖挖逆筑提供条件，使后期出入口通道部分与先期出入口通道顶板围成出入口通道，能够实现大型箱涵一次永久改迁，造价低，工期短。

基本信息

专利标题：

一种地下出入口通道下穿迁改后箱涵的结构体系

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021047476.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-06-09

授权号：

CN212506407U

授权日：

2021-02-09

发明人：

曹文轩雷崇李志敏曾友金雷铎尹进李晓峰

申请人：

中铁第四勘察设计院集团有限公司

申请人地址：

湖北省武汉市武昌杨园和平大道745号

代理机构：

北京汇泽知识产权代理有限公司

代理人：

吴静

优先权：

CN202021047476.8

主分类号：

E02D29/045

IPC分类号：

E02D29/045