一种真空镀膜机
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摘要
本实用涉及镀膜设备技术领域，具体涉及一种真空镀膜机，其包括真空箱、设于真空箱外用于对真空箱抽真空的抽真空机构和设于真空箱内的材料架、第一镀膜机构、传动机构、驱动机构、第二镀膜机构、第三镀膜机构以及离子源清洗机构；所述材料架用于承载待镀膜的基片；所述第一镀膜机构用于对材料架上的基片镀防指纹膜；所述传动机构用于带动材料架和第一镀膜机构转动；所述驱动机构用于驱动传动机构转动；所述第二镀膜机构用于对材料架上的基片镀硅膜；所述第三镀膜机构用于对材料架上的基片镀抗菌膜；所述离子源清洗机构用于向真空腔内释放等离子体对材料架上的基片进行清洗。本实用新型的真空镀膜机可以同时对基片镀多种膜层。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020964469.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-29
授权号 ：
CN212533113U
授权日 ：
2021-02-12
发明人 ：
李勇聪梁凤连梁金培唐光安
申请人 ：
深圳市信濠光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区福永街道大洋开发区福瑞路139号厂房1栋1楼B区
代理机构 ：
深圳市深可信专利代理有限公司
代理人 ：
彭光荣
优先权 ：
CN202020964469.8
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/02 C23C14/14 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-02-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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