一种基坑变形监测用棱镜基座

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种基坑变形监测用棱镜基座，涉及基坑技术领域，包括底座，所述底座的顶部固定连接有承载柱，所述承载柱的顶部设置有螺纹槽，且承载柱的上方设置有调节轴，所述调节轴的顶部固定连接有调节盘，所述调节盘的顶部设置有空腔。本实用新型中，通过手轮、竖轴和底座之间的配合使用，控制每个插脚插入基坑土壤的深度，即实现了该基座水平调节的功能，以便使其适用于不平整的基坑，通过承载柱、螺纹槽、调节轴、调节盘、空腔、圆盘、第一磁铁、第二磁铁、连接轴和承载座之间的配合使用，既能实现棱镜高度调节的功能，又能实现棱镜角度调节的功能，增加了棱镜监测的效果，增加了使用的便捷性。

基本信息

专利标题：

一种基坑变形监测用棱镜基座

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020864822.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-05-21

授权号：

CN211878288U

授权日：

2020-11-06

发明人：

岳文通

申请人：

岳文通

申请人地址：

河北省廊坊市广阳区颐和佳苑小区

代理机构：

北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

张铁兰

优先权：

CN202020864822.5

主分类号：

G02B7/18

IPC分类号：

G02B7/18 E02D33/00