石墨盘
授权
摘要
本实用新型提供一种石墨盘，所述石墨盘包括石墨本体和在石墨本体表面沉积的涂层，所述石墨本体包括至少一个孔洞，所述每一孔洞中填充与其匹配的石墨块。
基本信息
专利标题 ：
石墨盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020713898.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-30
授权号 ：
CN212293741U
授权日 ：
2021-01-05
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
聚灿光电科技（宿迁）有限公司
申请人地址 ：
江苏省宿迁市经济技术开发区东吴路南侧
代理机构 ：
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
常伟
优先权 ：
CN202020713898.8
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458 H01L21/673
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-01-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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