一种可调靶基距的基片装夹装置
专利权质押合同登记的生效、变更及注销
摘要

本实用新型属于自动化镀膜的技术领域,尤其涉及一种可调靶基距的基片装夹装置。包括基片架框架,所述基片架框架上设有多个可用于安装垫片的安装位,通过安装不同高度的垫片可调节基片镀膜表面与靶材表面之间的靶基距使异型基片正面镀膜时的靶基距与反面镀膜时的靶基距相等或接近。通过在用于装放基片的基片架上设置安装位安装位,可安装垫片,使得基片正反面在连续镀膜过程中,通过选择不同的装夹装置,可直接改变基片正反面镀膜的靶基距,从而保证产品正反面镀膜时工艺的一致性以及膜层性能的一致性。而且通过安装不同的垫片,可使满足不同规格的基片调节实用,无需更换基片架,其灵活性强。

基本信息
专利标题 :
一种可调靶基距的基片装夹装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020620550.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-22
授权号 :
CN214142520U
授权日 :
2021-09-07
发明人 :
姜翠宁
申请人 :
广东生波尔光电技术有限公司
申请人地址 :
广东省中山市板芙镇深湾村街上队“牛长岭”三号(一层301座)
代理机构 :
中山市捷凯专利商标代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
石仁
优先权 :
CN202020620550.4
主分类号 :
C23C14/50
IPC分类号 :
C23C14/50  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2022-02-15 :
专利权质押合同登记的生效、变更及注销
专利权质押合同登记的生效IPC(主分类) : C23C 14/50
登记号 : Y2022980001039
登记生效日 : 20220124
出质人 : 广东生波尔光电技术有限公司
质权人 : 中山农村商业银行股份有限公司火炬开发区科技支行
实用新型名称 : 一种可调靶基距的基片装夹装置
申请日 : 20200422
授权公告日 : 20210907
2021-09-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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