电镜样品前处理设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种电镜样品前处理设备，包括处理箱、射频离子源、气路系统及真空泵组；处理箱内设有样品腔室；射频离子源连接处理箱并与样品腔室连通；气路系统连接射频离子源，气路系统为射频离子源提供所需的气源；真空泵组连接处理箱并与样品腔室连通，真空泵组用于对样品腔室及射频离子源抽真空。可以在同一个样品腔室同时清洗扫描电子显微镜样品和透射电子显微镜样品，也可以分别独立清洗扫描电子显微镜样品或透射电子显微镜样品，通用性强，有效降低成本；通过射频离子源处理待透射电镜观察并需要亲水性制备的透射电镜样品，实现对透射电镜样品亲水活化无损处理；实现对电镜样品进行真空储存，有效保证电镜样品的质量。
基本信息
专利标题 ：
电镜样品前处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020390097.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-24
授权号 ：
CN211785234U
授权日 ：
2020-10-27
发明人 ：
张小波常正凯张增雄
申请人 ：
深圳市速普仪器有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区南山街道桂庙路北向南瑞峰花园1栋209
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
陈秀丽
优先权 ：
CN202020390097.2
主分类号 ：
G01N23/2202
IPC分类号 ：
G01N23/2202 G01N23/2005 G01N1/34
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/2202
样品制备
法律状态
2020-10-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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