一种用于涂胶显影设备的废液收集系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于涂胶显影设备的废液收集系统，包括：废液收集箱、储液柜；废液收集箱顶部设有第一进液口，废液收集箱下部设有第一出液口，废液收集箱外壁上设有第一液位计；储液柜内固定连接水平隔板，水平隔板将储液柜分隔为第一隔层、第二隔层；第二隔层内设有储液箱，储液箱外壁上设有第二液位计；储液箱的下部设有第二出液口，第二出液口处设有阀门；储液箱顶部设有第二进液口，第二进液口通过第一管道连通有气动泵，气动泵通过第二管道与第一出液口连通；第一隔层内设有控制装置，控制装置分别与第一液位计、第二液位计、气动泵电连接，控制装置还电连接有液位警报装置。本实用新型能够及时提示工作人员对废液进行处理。
基本信息
专利标题 ：
一种用于涂胶显影设备的废液收集系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020277802.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-09
授权号 ：
CN212135142U
授权日 ：
2020-12-11
发明人 ：
姚舜捷
申请人 ：
上海图双精密装备有限公司
申请人地址 ：
上海市青浦区华浦路500号6幢A区1层199室
代理机构 ：
上海汇齐专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
朱明福
优先权 ：
CN202020277802.8
主分类号 ：
G03F7/30
IPC分类号 ：
G03F7/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/30
用液体消除影像的
法律状态
2020-12-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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