耐用型高顺滑耐高透光导电膜

授权

摘要

本实用新型属于导电膜技术领域，尤其涉及一种耐用型高顺滑耐高透光导电膜，包括透明基层、光学胶层、导电层和顺滑层，透明基层具有相对设置的第一表面和第二表面，光学胶层设置于透明基层的第一表面，导电层设置于光学胶层的表面，顺滑层设置于透明基层的第二表面，且顺滑层以纳米二氧化硅为原材料并采用喷涂工艺形成于透明基层的第二表面，纳米二氧化硅的直径为0.02μm～0.04μm。本实用新型中，选用的纳米二氧化硅的直径限定在0.02μm～0.04μm之间，这样可以确保形成的顺滑层即使被手指长期接触，也不会因为被磨损坏而影响其正常的顺滑性能；同时，还可以避免对透明基层和光学胶层的透光率造成影响，进而使得导电膜保持其原有的高透光性能。

基本信息

专利标题：

耐用型高顺滑耐高透光导电膜

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020273812.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-03-07

授权号：

CN211404084U

授权日：

2020-09-01

发明人：

吴永明韩英俊彭权

申请人：

东莞市鑫玺源新材料科技有限公司

申请人地址：

广东省东莞市桥头镇大洲社区大东路东一巷36号

代理机构：

东莞市科凯伟成知识产权代理有限公司

代理人：

王宇聪

优先权：

CN202020273812.4

主分类号：

H01B5/14

IPC分类号：

H01B5/14