一种薄膜真空等离子体处理设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种薄膜真空等离子体处理设备，所述真空等离子体处理设备包括：多级抽真空单元、支撑单元及迂回部组合单元；所述迂回部组合单元位于真空等离子体处理设备的中部，用于对薄膜材料进行等离子体处理，所述多级抽真空单元位于真空等离子体处理设备的两侧，确保迂回部组合单元内部保持真空环境，所述支撑单元位于多级抽真空单元和迂回部组合单元的外侧，起支撑和保护作用。所述真空等离子体处理设备采取多级抽真空的方式实现迂回部组合单元内部的真空状态，以提供稳定的辉光放电环境，薄膜可以穿过真空等离子体处理设备做连续运动，放电产生的等离子体对迂回部组合单元内部的薄膜进行处理，既能兼顾薄膜处理的连续性，又能保证处理环境的密封性。
基本信息
专利标题 ：
一种薄膜真空等离子体处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020163288.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-12
授权号 ：
CN210956594U
授权日 ：
2020-07-07
发明人 ：
刘鑫培沈文凯王红卫
申请人 ：
苏州市奥普斯等离子体科技有限公司;苏州德睿源等离子体研究院有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区泰山路2号（博济科技园内）
代理机构 ：
苏州科洲知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王悦
优先权 ：
CN202020163288.5
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2020-07-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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