真空等离子设备
授权
摘要
本实用新型提供了真空等离子设备,包括等离子设备主体及真空泵,真空泵位于等离子设备主体所在的第一箱体外,还包括第二箱体,真空泵位于第二箱体内,第二箱体一面上固定第一连接圈,第一箱体至少两面上固定第二连接圈,第一连接圈与第二连接圈通过螺栓固定,真空泵进气口处设连接管,连接管另端与等离子体设备主体的腔室内连通,第二箱体内铺设有消音层,本真空等离子设备主用于清洗工件,主要改进点在于真空泵的安装结构,增设第二箱体,通过第一连接圈、第二连接圈的配合,使第一箱体、第二箱体固定,分体式结构便于调整位置,便于厂房或实验室布局安装,并在第二箱体内安装消音层,大幅降低第二箱体内的真空泵产生的噪音,工作环境更舒适。
基本信息
专利标题 :
真空等离子设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020160484.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-02-10
授权号 :
CN211726804U
授权日 :
2020-10-23
发明人 :
董海青申鹏
申请人 :
深圳市创智捷科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区航城街道钟屋社区钟屋工业区梅洲五洲电路板厂101号47栋
代理机构 :
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
汪建华
优先权 :
CN202020160484.7
主分类号 :
B08B7/00
IPC分类号 :
B08B7/00 B08B13/00 G10K11/16
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2020-10-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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