一种OLED蒸镀坩埚
授权
摘要
本实用新型公开了一种OLED蒸镀坩埚，包括坩埚本体，所述坩埚本体的顶部具有开口，还包括喷嘴，所述喷嘴设置在所述开口上，所述喷嘴的横截面积由喷嘴顶部至底部逐渐减小，所述喷嘴的内腔通过所述开口与所述坩埚本体连通，所述喷嘴的内腔用于作为坩埚本体内的待蒸镀物的喷出通道。上述技术方案的喷嘴使坩埚无需使用限制板来调节蒸镀角，从而避免开腔更换并清洗制限板，这样能够使待蒸镀物以较大的程度均匀地镀到基板上。提高了OLED蒸镀坩埚的稼动率，降低OLED蒸镀坩埚的使用成本，提高成膜质量。
基本信息
专利标题 ：
一种OLED蒸镀坩埚
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020071532.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-14
授权号 ：
CN211665166U
授权日 ：
2020-10-13
发明人 ：
王海燕孙玉俊
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州市景弘专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
徐剑兵
优先权 ：
CN202020071532.5
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-10-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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