蒸镀装置
授权
摘要
本申请涉及蒸镀技术领域，具体而言，涉及一种蒸镀装置。该蒸镀装置可包括：掩膜板，具有蒸镀图案区和位于所述蒸镀图案区周边的边框区；温控支撑组件，其包括加热支撑部、第一散热部及第一驱动部；其中，所述加热支撑部支撑所述边框区，且所述加热支撑部能够对所述边框区进行加热；所述第一散热部活动设置在所述加热支撑部上并位于所述边框区远离所述蒸镀图案区的一侧；所述第一驱动部与所述第一散热部连接，并能够驱动所述第一散热部向靠近或远离所述边框区的方向运动，以使所述第一散热部能够与所述边框区相接触或相分离。该蒸镀装置在提升蒸镀良率的同时，还能够提高稼动率。
基本信息
专利标题 ：
蒸镀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020007512.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-02
授权号 ：
CN211311567U
授权日 ：
2020-08-21
发明人 ：
马超伍青峰李育晖张忠忠石应东张文畅黄世花
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 ：
王辉
优先权 ：
CN202020007512.1
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/54 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2020-08-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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