套刻精度的控制方法和装置
实质审查的生效
摘要
本申请实施例提供一种套刻精度的控制方法和装置，在确定当前层的套刻误差补偿值之前，先判断当前层是否存在相似层，其中，当前层和相似层均相对于同一基准层对准，且二者的套刻精度要求均相对于基准层；如果当前层存在相似层，则根据当前批次晶圆在相似层的套刻误差值，和/或之前批次晶圆在相似层的套刻误差值，确定当前批次晶圆在当前层的套刻误差补偿值；利用当前批次晶圆在当前层的套刻误差补偿值对当前批次晶圆的当前层进行光刻工艺。该方法能够将当前批次晶圆，和/或之前批次晶圆在相似层的套刻误差值作为参考数据进而丰富了参考数据，提高了套刻误差补偿值的准确度。
基本信息
专利标题 ：
套刻精度的控制方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114371602A
申请号 ：
CN202011101233.2
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2020-10-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周晓方章杏
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济开发区空港工业园兴业大道388号
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
张娜
优先权 ：
CN202011101233.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20201015
申请日 : 20201015
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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