一种大角度入射红外硬质保护薄膜光学窗口
授权
摘要
本发明属于光学薄膜技术领域，公开了一种大角度入射红外硬质保护薄膜窗口，通过在Si基底一面设计大角度入射红外减反射硬质保护薄膜，其中选择高硬度的Si3N4薄膜作为最外层保护薄膜，在另一面设计大角度入射红外减反射薄膜，能实现高透过率、高硬度(>20GPa)、大角度工作范围(0°‑70°)的红外硬质保护薄膜窗口的设计。结果表明，本发明将大大提高红外硬质保护薄膜窗口在不同入射角度范围内的性能，对于大角度入射高性能红外硬质保护薄膜窗口的离子束溅射制备具有重要的作用。
基本信息
专利标题 ：
一种大角度入射红外硬质保护薄膜光学窗口
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112068227A
申请号 ：
CN202010947461.5
公开（公告）日 ：
2020-12-11
申请日 ：
2020-09-10
授权号 ：
CN112068227B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
刘华松姜玉刚杨霄白金林孙鹏何家欢
申请人 ：
天津津航技术物理研究所
申请人地址 ：
天津市东丽区空港经济区中环西路58号
代理机构 ：
中国兵器工业集团公司专利中心
代理人 ：
刘二格
优先权 ：
CN202010947461.5
主分类号 ：
G02B1/14
IPC分类号 ：
G02B1/14 G02B1/115
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/14
保护涂层。例如，硬涂层
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2020-12-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/14
申请日 : 20200910
申请日 : 20200910
2020-12-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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