衍射光学元件的设计方法、衍射光学元件及设计系统
授权
摘要
本发明提供了一种衍射光学元件的设计方法,其特征在于,包括:S101:获得目标平面上的第一光场图案;S102:将所述目标平面上的第一光场图案转换为球面上的第二光场图案;S103:对所述球面上的第二光场图案的缺失点进行补偿,并匹配灰度值,从而得到修正后的第三光场图案;和S104:根据所述第三光场图案,计算得到所述衍射光学元件的相位分布。该设计方法改善了衍射光学元件的投射质量。
基本信息
专利标题 :
衍射光学元件的设计方法、衍射光学元件及设计系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111913299A
申请号 :
CN202010518114.0
公开(公告)日 :
2020-11-10
申请日 :
2020-06-09
授权号 :
CN111913299B
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
冯辉赵辉
申请人 :
嘉兴驭光光电科技有限公司
申请人地址 :
浙江省嘉兴市桐乡市高桥大道1156号3幢8楼
代理机构 :
北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
郝文博
优先权 :
CN202010518114.0
主分类号 :
G02B27/00
IPC分类号 :
G02B27/00 G02B5/18
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
法律状态
2022-04-08 :
授权
2020-11-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 27/00
申请日 : 20200609
申请日 : 20200609
2020-11-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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