一种重离子辐照系统及辐照方法
授权
摘要
本发明涉及一种离子辐照系统及方法。所述系统包括真空腔室和横向梯度剂量控制装置，其中，所述真空腔室上设有离子束入射口；所述横向梯度剂量控制装置的一端伸入所述真空腔室，该一端用于固定待辐照样品，所述横向梯度剂量控制装置的轴线垂直所述离子束的入射方向，所述横向梯度剂量控制装置能够沿其轴向移动。本发明用重离子辐照的方法在材料上能够形成连续的梯度剂量损伤区域，在短时间内得到与中子辐照相似损伤分布的样品，为先进核能系统候选材料的筛选和服役寿命评估提供了实验平台。
基本信息
专利标题 ：
一种重离子辐照系统及辐照方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111599504A
申请号 ：
CN202010481699.3
公开（公告）日 ：
2020-08-28
申请日 ：
2020-05-29
授权号 ：
CN111599504B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
张崇宏
申请人 ：
中国科学院近代物理研究所
申请人地址 ：
甘肃省兰州市城关区南昌路509号
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘小娟
优先权 ：
CN202010481699.3
主分类号 ：
G21K5/10
IPC分类号 ：
G21K5/10 G21K5/04 G21C17/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K5/00
照射装置
G21K5/10
具有在束流源与被照射物体有相对运动的设备
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2020-09-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G21K 5/10
申请日 : 20200529
申请日 : 20200529
2020-08-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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