一种聚合物/银基低辐射纳米多层薄膜及其制备方法
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摘要
本发明公开了一种聚合物/银基低辐射纳米多层薄膜及其制备方法，属于功能薄膜材料技术领域。所述聚合物/银基低辐射纳米多层薄膜包括结构调制层、银功能层、阻隔层和保护层；各层的成分为：所述结构调制层为聚甲基丙烯酸甲酯层，阻隔层为聚偏氟乙烯层；保护层为聚偏氟乙烯‑聚四氟乙烯复合层。在玻璃基底上依次沉积聚甲基丙烯酸甲酯构成的结构调制层、银功能层、聚偏氟乙烯阻隔层和聚偏氟乙烯‑聚四氟乙烯复合层构成的保护层。本发明所得薄膜在可见光范围内有较高透明性和较低的辐射率；有效提高了薄膜的耐潮湿和耐磨损性能，能够保持薄膜在可见光区具有较高的透明性，可实现银基低辐射薄膜在工程表面的应用推广。
基本信息
专利标题 ：
一种聚合物/银基低辐射纳米多层薄膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111575658A
申请号 ：
CN202010443587.9
公开（公告）日 ：
2020-08-25
申请日 ：
2020-05-22
授权号 ：
CN111575658B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
刘竹波周兵王涛刘元铭任忠凯刘江林
申请人 ：
太原理工大学
申请人地址 ：
山西省太原市万柏林区迎泽西大街79号
代理机构 ：
太原市科瑞达专利代理有限公司
代理人 ：
申艳玲
优先权 ：
CN202010443587.9
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30 C23C14/12 C23C14/18 C23C14/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2020-09-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/30
申请日 : 20200522
申请日 : 20200522
2020-08-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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